유도결합 플라즈마 발광광도법
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작성일 22-12-26 01:10본문
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이와 같은 ICP의 구조는 중심에 저온, 저전자 밀도의 영역이 형성되어 도너츠 형태로 되는데 이 도너츠 모양의 구조가 ICP의 특징이다.
1장
유도결합플라즈마발광광도법
1. 원리 및 적용 범위
2. 개요
3. 장치
3.1 시료도입부
3.2 고주파 전원부
3.3 광원부
3.4 분광부 및 측광부
3.5 연산처리부
3.6 ICP 발광分析(분석) 장치의 설비조건
3.7 내부 삽입형 ICP-Seputtering 장치
4. 장치의 조작법
4.1 플라즈마가스의 준비
4.2 설정조건
4.3 조작순서
5. 시료의 分析(분석)
5.1 정constituent 석
5.2 정량分析(분석)
5.3 검량선의 교정
5.4 바탕선의 보정
5.5 기존 ICP방법의 問題點
2장 ICP를 이용한 중금속(GBC XMP)
1. 기기 원리 및 적용범위
2. 플라즈마 점화
3. setting
4. 分析(분석)
5. ICP 장비를 끌때
6. Hydride Genertor을 이용한 分析(분석)
7. 아르곤 가스를 교환한 경우
3장 ICP를 이용한 TiN,(Ti, Al)N, (Ti, Cr)N 박막의 제조
1. 유도결합플라즈마를 이용한 TiN 박막의 미세 조직 제어
2. ICP Sputting으로 제조한 TiNvl막의 경로와 접착력
3. ICP Sputtering으로 제조한 TiN 피막의 마모 특성(特性) 비교
ICP는 알곤가스를 플라즈마 가스로 사용하여 수정발진식 고주파발생기로부터 발생된 주파수 27.13MHZ 영역에서 유도코일에 의하여 플라즈마를 발생시킨다. ICP의 토오치(Torch)는 3중으로 된 석영관이 이용되며 제일 안쪽으로는 시료가 운반가스(알곤, 0.4～2ℓ/min)와 함께 흐르며, 가운데 관으로는 보조가스(알곤, 플라즈마가스 0.5～2ℓ/min), 제일 바깥쪽관에는 냉각가스(알곤, 10～20ℓ/ min)가 도입되는데 토오치의 상단부분에는 물을 순환시켜 냉각시키는 유도코일이 잠겨 있다 이 유도코일을 통하여 고주파를 가해주면 고주파가 알곤가스 매체중에 유도되어 플라즈마를 형성하게 되는데 이때 테슬라코일에 의하여 방전하면 알곤가스의 일부가 전리되어 플라즈마가 점등한다. 이와같이 생성된 전자는 다시 알곤가스를 전리하여 전자의 증식작용을 하므로서 전자밀도가 대단히 큰 플라즈마 상태를 유지하게 된다 알곤플라즈마는 토오치 위에 불꽃형태(직경 12～15mm, 높이 약 30mm)로 생성되지만 온도, 전자밀도가 가장 높은 영역은 중심축보다 약간 바깥쪽(2～4mm)에 위치한다.유도플라즈마발광광도법ICP , 유도결합 플라즈마 발광광도법공학기술레포트 ,
유도플라즈마발광광도법ICP
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다.
에어로졸 상태로 분무된 시료는 가장 안쪽의 관을 통하여 플라즈마(도너츠모양)의 중심부에 도입되는데 이때 시료는 도너츠내부의 좁은 부위에 한정되므로 광학적으로 발광되는 부위가 좁아져 강한 발광을 관측할 수 있으며 화학적으로 불활성인 위치에 원자화가 이루어지게 된다
플라즈마의 온도는 최고 15,000까지 이르며 보통시료는 6,000～8,000의 고온에 도입되므로 거의 완전한 원자화가 일어나 分析(분석)에 장애가 되는 많은 간섭을 배제하면서 고감도의 측정(測定) 이 가능하게 된다 또한 플라즈마는 그 …(생략(省略))
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유도결합 플라즈마 발광광도법
레포트/공학기술
본 자료는 유도결합 플라즈마 발광광도법에 대해 조사정리한 보고서입니다.
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설명
본 자료(data)는 유도결합 플라즈마 발광광도법에 대해 조사정리(整理) 한 보고서입니다. 방전시에 생성되는 전자는 고주파 전류가 유도코일을 흐를 때 발생하는 자기장에 의하여 가속되어 주위의 알곤가스와 충돌하여 이온화되고 새로운 전자와 알곤이온을 생성한다.